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電鍍工藝之滾鍍時(shí)應(yīng)注意哪些事項(xiàng)?

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電鍍工藝之滾鍍時(shí)應(yīng)注意哪些事項(xiàng)?

發(fā)布日期:2018-12-29 作者:無錫出新表面工程設(shè)備有限公司 點(diǎn)擊:

滾鍍的陰極電流密度雖然較大,然而由于電流密度差異懸殊,多數(shù)電流消耗在高電流密度的工件上,平均電流密度卻很小,結(jié)果是陰極電流效率低,如操作中稍有疏忽,鍍層厚度就難以保證。


    2.滾鍍過程中同時(shí)存在化學(xué)溶解


    當(dāng)工件翻滾時(shí)會(huì)使電流時(shí)斷時(shí)續(xù),要求加厚鍍層需要延長滾鍍時(shí)間,然而在局部處的鍍層仍難以增厚。


    3.及時(shí)調(diào)整主鹽濃度


    滾鍍?nèi)芤褐兄鼷}消耗較快,這主要是陽極面積常常不足,工件出槽時(shí)損耗較多等原因引起的。主鹽含量過低時(shí)會(huì)引起電流效率下降,鍍層難以鍍厚,為此需根據(jù)化驗(yàn)分析數(shù)據(jù)及時(shí)予以調(diào)整。


    4.滾鍍件預(yù)處理難度大


    滾鍍件只能在籃筐里預(yù)處理,難免有重疊,故難以除盡污物。因而滾鍍?nèi)芤阂资芪廴?,由于滾鍍?nèi)芤簩?duì)雜質(zhì)較敏感,故溶液的凈化處理工作量較大,往往容易因此而耽誤生產(chǎn)。


    5.滾鍍?nèi)芤旱膒H值變化大


    pH值的變化尤其在滾鍍鎳時(shí)更為明顯。這是因?yàn)闈L鍍鎳過程中局部部位析氫激烈。為維護(hù)生產(chǎn),pH值需要勤調(diào)

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