空電鍍主要包括：真空蒸鍍、濺射鍍和離子鍍幾種類型。它們都是采用在真空條件下，通過蒸餾或濺射等方式在塑件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜，通過這樣的方式可以得到非常薄的表面鍍層，同時具有速度快附著力好的突出優(yōu)點，但是價格也較高，可以進行操作的金屬類型較少，一般用來作較高檔產(chǎn)品的功能性鍍層，例如作為內(nèi)部屏蔽層使用。

真空電鍍工藝的特點有：

1.真空電鍍所鍍的金屬膜層是需要比較薄的，應(yīng)該在0.01-0.1微米，并且可以嚴格的復制出鍍件表面的形狀；

2.真空電鍍的工藝使用電壓不是很高，應(yīng)該在200V，工藝流程比較簡單；

3.工藝所使用的蒸鍍鍋瓶的容積比較小，電鍍件的出數(shù)件比較少，生產(chǎn)效率比較低；

4.真空電鍍工藝只限于比鎢絲熔點比較低的金屬，如鋁、銀、銅、金等等鍍件飾品；

5.真空電鍍的工藝質(zhì)量要求比較高，電鍍之前必須要打底油來彌補工件表面存在的一些不足；

6.真空電鍍工藝可以鍍的塑料件材質(zhì)有許多，包括ABS、PE、PVC等等。